7月4日，英国剑桥大学副研究员史志天博士应邀访问我系并做客第459期“凯发K8学术论坛”。史志天博士面向全系师生作了题为“基于深硅刻蚀工艺的 X 射线光栅制备方法简介(On the fabrication of X-ray gratings with deep silicon etching)”的学术报告。本次学术论坛由王振天副教授主持，包括清华微纳加工中心🧸、深圳大学、深圳综合粒子研究院在内的校内外线上线下25名师生参加🧑‍🏭。

史志天博士详细介绍了基于深硅刻蚀的X射线光栅元件制备的原理和方法，总结了过于10年深硅刻蚀在X射线光学元件制备领域的发展，展示了当下基于该技术的X射线元件制备的最近进展📁，并对未来技术工艺的发展方向进行了展望。史志天博士与参会师生进行了热烈讨论和充分交流。本次活动受到了凯发K8系的支持🗄🤱，促进了凯发K8系在X射线光学元件制备领域与国际先进团队的交流与合作。